![login icon]()
Přihlásit se
Získejte přístup k individuálním cenám a možnosti přímého nákupu.
![login icon]()
Přihlásit se
Získejte přístup k individuálním cenám a možnosti přímého nákupu.
Přihlásit se
Nemáte zatím svůj účet
- Produkty
-
- Dle parametru
-
- Měření teploty
- Měření vlhkosti
- Měření vodní aktivity
- Měření CO2
- Měření diferenčního tlaku
- Měření nízkého rosného bodu
- Měření tlaku
- Měření proudu a napětí
- Měření přetížení a vibrací
- Měření vodní hladiny
- Měření rychlosti větru
- Měření pH
- Měření mechanického napětí
- Měření pulzů, stavů a událostí
- Kalibrátory a kalibrační vybavení
- Vakuové pájecí pece
- Vakuové pece pro rychlé tepelné žíhání
- Vyhřívané desky
- Automatizační moduly
- Software
-
- Dle výrobce
-
- Monitorovací a automatizační systémy
- Služby a podpora
- Aplikace
- Reference
- Časté dotazy
-
![]()
- Produkty
- Vakuové pece pro rychlé tepelné žíhání
- RTP-150 | Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 150 mm
RTP-150
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 150 mm
Vybrat variantu
-
Rychlé tepelné procesy s vysokou přesností a kompaktním designem
Model RTP-150 je multifunkční stolní vakuová pec určená pro rychlé tepelné procesy (RTP) v oblasti polovodičů, výzkumu a vývoje. Nabízí přesné řízení teploty, řízenou atmosféru, možnost vakua a kompaktní konstrukci s čelním plněním.
Klíčové vlastnosti:
- Maximální velikost substrátu: 150 mm wafer nebo 156 × 156 mm substrát
- Maximální teplota: 1000 °C (volitelně až 1200 °C)
- Náběh teploty: až 75 K/s (volitelně až 200 K/s)
- Topný výkon: 24 infračervených lamp (21 kW), horní a spodní ohřev
- Komora: křemenná, výška 40 mm, s plynovými vstupy a výstupy
- Vakuum: až do 10⁻³ hPa (volitelně až 10⁻⁶ hPa s verzí HV)
- Řízení atmosféry: 1 plynová linka s MFC pro dusík (5 nlm), možnost rozšíření až o 3 další linky
- Ovládání: SIMATIC SPS s 7" dotykovým panelem, až 50 programů po 50 krocích
- Chlazení: vodní (nutné)
- Rozhraní: Ethernet
Volitelné příslušenství:
- Další plynové linky s MFC
- Vodíkový modul s bezpečnostními prvky
- Modul pro kyselinu mravenčí
- Membránová pumpa (chemicky odolná)
- Olejová rotační pumpa
- Uzavřený vodní chladicí okruh (3,9 nebo 8,8 kW)
- Křemenný držák waferu nebo křemenná mufle
- Graphitový susceptor
- Bezpečnostní kryt Hood L
- Adaptace pro glovebox
- Alarmsvětlo (pat light)
- Externí switchbox pro pumpu nebo chladič
Technické parametry:
- Rozměry zařízení: 504 × 504 (700) × 570 mm
- Hmotnost: cca 55 kg
- Napájení: 3×400 V, 32 A, 3 fáze + N + PE (CEE zástrčka)
- Řízení: Siemens SPS, dotykový panel
- Chlazení: vodní, nutné pro provoz
RTP-150
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 150 mm
Vybrat variantu
RTP-150 – Rychloohřevná vakuová pec pro tepelné procesy až do 1000 °C
RTP-150 je stolní pec pro rychlé tepelné procesy s přesným řízením atmosféry, vakuem a náběhem teploty až 75 K/s. Ideální pro polovodičové aplikace, výzkum a vývoj.
-
Rychlé tepelné procesy s vysokou přesností a kompaktním designem
Model RTP-150 je multifunkční stolní vakuová pec určená pro rychlé tepelné procesy (RTP) v oblasti polovodičů, výzkumu a vývoje. Nabízí přesné řízení teploty, řízenou atmosféru, možnost vakua a kompaktní konstrukci s čelním plněním.
Klíčové vlastnosti:
- Maximální velikost substrátu: 150 mm wafer nebo 156 × 156 mm substrát
- Maximální teplota: 1000 °C (volitelně až 1200 °C)
- Náběh teploty: až 75 K/s (volitelně až 200 K/s)
- Topný výkon: 24 infračervených lamp (21 kW), horní a spodní ohřev
- Komora: křemenná, výška 40 mm, s plynovými vstupy a výstupy
- Vakuum: až do 10⁻³ hPa (volitelně až 10⁻⁶ hPa s verzí HV)
- Řízení atmosféry: 1 plynová linka s MFC pro dusík (5 nlm), možnost rozšíření až o 3 další linky
- Ovládání: SIMATIC SPS s 7" dotykovým panelem, až 50 programů po 50 krocích
- Chlazení: vodní (nutné)
- Rozhraní: Ethernet
Volitelné příslušenství:
- Další plynové linky s MFC
- Vodíkový modul s bezpečnostními prvky
- Modul pro kyselinu mravenčí
- Membránová pumpa (chemicky odolná)
- Olejová rotační pumpa
- Uzavřený vodní chladicí okruh (3,9 nebo 8,8 kW)
- Křemenný držák waferu nebo křemenná mufle
- Graphitový susceptor
- Bezpečnostní kryt Hood L
- Adaptace pro glovebox
- Alarmsvětlo (pat light)
- Externí switchbox pro pumpu nebo chladič
Technické parametry:
- Rozměry zařízení: 504 × 504 (700) × 570 mm
- Hmotnost: cca 55 kg
- Napájení: 3×400 V, 32 A, 3 fáze + N + PE (CEE zástrčka)
- Řízení: Siemens SPS, dotykový panel
- Chlazení: vodní, nutné pro provoz
Seznam variant RTP-150
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 150 mm, vakuum do 10-3 hPa
RTP-150-HV
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 150 mm, vakuum do 10-6 hPa
RTP-150
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 150 mm, vakuum do 10-3 hPa
RTP-150-HV
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 150 mm, vakuum do 10-6 hPa
Kontaktní formulář
S čím vám můžeme pomoct?
Využijte kontaktní formulář pro jakýkoliv dotaz či připomínku
Ing. Jiří Pokorný, CSc.
Technický specialista, jednatel
Rádi se s vámi domluvíme na nezávazném setkání u vás v provozu. Nejlépe tak pochopíme vaše potřeby v oblasti měření a automatizace.
Rádi se s vámi sejdeme i online na platformě MS Teams
