Záruka přesného měření
magnify icon
magnify icon
mail icon datel@datel.cz Ozveme se do 24 h
phone icon +420 775 225 941 Po - Pá 9.00 - 17.00
Kontakt

login icon Přihlásit se

Získejte přístup k individuálním cenám a možnosti přímého nákupu.

Požádat o založení účtu

Přihlásit se

Zapomenuté heslo

Nemáte zatím svůj účet

Požádat o založení účtu

login icon Přihlásit se

Získejte přístup k individuálním cenám a možnosti přímého nákupu.

Požádat o založení účtu

Přihlásit se

Zapomenuté heslo

Nemáte zatím svůj účet

Požádat o založení účtu

UniTemp

HP-300

Vyhřívaná deska pro vzorky do 300x300 mm, do 300 °C

  • Horká deska pro velkoformátové substráty s přesným řízením teploty

    Model HP-300 je vysoce přesná horká deska (hot chuck) určená pro substráty o velikosti až 300 × 300 mm nebo 300 mm wafery. Díky velké topné ploše 310 × 310 mm, možnosti držení vakua a třízónovému měření teploty je ideální pro aplikace v oblasti mikroelektroniky, polovodičů a výzkumu materiálů.

    Klíčové vlastnosti:

    • Topná plocha: 310 × 310 mm
    • Maximální teplota: 300 °C
    • Držení vakua: vakuové otvory v rastru 25 mm (Ø 1 mm)
    • Měření teploty: třízónové, s možností správy teplotních profilů
    • Řízení: externí regulátor (není součástí)
    • Použití: jako samostatná jednotka nebo vestavný modul
    • Krytí: IP23
    • Vyrobeno v Německu, snadná údržba

    Typické aplikace:

    • Předehřev a pájení přetavením velkých substrátů
    • Žíhání a tepelné zpracování
    • Vytvrzování lepidel a fotorezistů
    • Testování a vývoj polovodičových struktur

UniTemp

HP-300

Vyhřívaná deska pro vzorky do 300x300 mm, do 300 °C

HP-300 – Vysoce přesná horká deska pro substráty až do 300 × 300 mm

HP-300 je výkonná horká deska s možností držení vakua, určená pro laboratorní i výrobní aplikace. Nabízí rovnoměrné rozložení teploty, třízónové měření a snadnou integraci.

  • Horká deska pro velkoformátové substráty s přesným řízením teploty

    Model HP-300 je vysoce přesná horká deska (hot chuck) určená pro substráty o velikosti až 300 × 300 mm nebo 300 mm wafery. Díky velké topné ploše 310 × 310 mm, možnosti držení vakua a třízónovému měření teploty je ideální pro aplikace v oblasti mikroelektroniky, polovodičů a výzkumu materiálů.

    Klíčové vlastnosti:

    • Topná plocha: 310 × 310 mm
    • Maximální teplota: 300 °C
    • Držení vakua: vakuové otvory v rastru 25 mm (Ø 1 mm)
    • Měření teploty: třízónové, s možností správy teplotních profilů
    • Řízení: externí regulátor (není součástí)
    • Použití: jako samostatná jednotka nebo vestavný modul
    • Krytí: IP23
    • Vyrobeno v Německu, snadná údržba

    Typické aplikace:

    • Předehřev a pájení přetavením velkých substrátů
    • Žíhání a tepelné zpracování
    • Vytvrzování lepidel a fotorezistů
    • Testování a vývoj polovodičových struktur

Kontaktní formulář

S čím vám můžeme pomoct?

Využijte kontaktní formulář pro jakýkoliv dotaz či připomínku

Ozveme se nejpozději následující pracovní den

O vaše data je u nás postaráno. Přečtěte si naše podmínky pro ochranu os. údajů.

Ing. Jiří Pokorný, CSc.

Technický specialista, jednatel

Rádi se s vámi domluvíme na nezávazném setkání u vás v provozu. Nejlépe tak pochopíme vaše potřeby v oblasti měření a automatizace.

contact icon

Rádi se s vámi sejdeme i online na platformě MS Teams

Ing. Jiří Pokorný, CSc.